半导体生产用纯水设备是半导体行业制造商的关键设备之一，生产半导体原料需要使用纯水进行清洗和制备，在半导体产业链中起着至关重要的作用。本文将从纯水设备工作原理、特点以及应用等方面进行阐述，希望能够帮助读者更好地了解这一领域的知识。

    半导体生产用纯水设备工作原理与反渗透设备的工作原理是相通的。都需要使用到渗透膜，其工作原理是对水施加一定的压力，使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜，而溶解在水中的绝大部分无机盐(包括重金属)、有机物以及细菌、病毒等无法透过反渗透膜，从而使渗透过的纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开；反渗透膜上的孔径只有0.0001微米，而病毒的直径一般有0.02-0.4微米，普通细菌的直径有0.4-1微米。